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媒体报道 | 2021-05-27

科华微电子亮相科技周

来源:未知      阅读:148

百年回望、崇尚科学、自立自强,易发体育平台全国科技周近日开幕。北京科华微电子材料入选易发体育平台北京市顺义区科技活动周参展企业。

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科华微电子248nm光刻胶新品在本届科技周中亮相。顺义区委常委、副区长徐晓俊、顺义区科委党组书记、主任袁日晨;科技企业代表、清华大学专家等出席启动仪式。启动仪式后,与会领导和嘉宾共同参观了主题展厅。科技周自5月24日开幕至5月28日结束。

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北京科华微电子材料有限公司2010年承担了国家02科技重大专项“248nm光刻胶研发与产业化”项目,2014年完成产业化正式形成销售。十年间,北京科华的248nm光刻胶产品从无到有,从1款非关键层产品小批量销售发展至今,科华微电子的KrF光刻胶产品应用涵盖了AA/poly/metal关键层以及TM/TV、Implant 、Contact /Hole等,目前已有7款产品在客户端形成批量销售,进入中芯国际、上海华力微电子、长江存储科技、武汉新芯、上海华虹宏力等国内主流用户中批量使用;同时有5款新品在客户端验证。其中KMP DK1080荣获第十二届(2017年度)中国半导体创新产品和技术奖;KMP DK1089荣获第二十二届(2020年度)中国国际高新技术成果交易会优秀产品奖,科华微电子的248nm光刻胶已经进入了快速增长轨道。 

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KMP DK3050是高活化能体系的高分辨深紫外正性光刻胶,适用于12寸逻辑电路制程55nm节点的关键离子注入层,在光硅基底上有良好的工艺窗口和解析度,符合工艺需求的垂直形貌。

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KMP DK1081是低活化能体系的高分辨深紫外正性光刻胶,适用于8寸逻辑电路制程180nm节点的关键金属层,同时适用于8寸逻辑130nm及12寸64层存储的离子注入层,在光硅基底及抗反射层基底上都具有良好的工艺窗口和解析度。

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KMP DK2060是低活化能体系的高分辨深紫外正性光刻胶,适用于8寸逻辑电路制程150nm节点的关键孔洞层,同时适用于12寸逻辑55nm及12寸64层存储的非关键孔洞层,在光硅基底及抗反射层基底上都具有良好的工艺窗口和解析度。

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